インテルは、ASMLの次世代リソグラフィー装置を使用して、一部のPanther Lakeノートパソコン向けチップの製造を決定した。
Golden Ten Dataの7月15日によると、リソグラフィ装置メーカーのASML（ASML.O）は現地時間の火曜日、Intel（INTC.O）がASMLのハイエンド機器を一部フラッグシップPanther Lakeノートパソコンチップの製造に使用することを決定したと発表した。この動きは、Intelが当該機器の応用経験をより効果的に蓄積するのに役立つ。ASMLは、Intelが2024年から試験を開始し、すでにASMLの次世代高開口数値極紫外（EUV）リソグラフィ装置を使用していると述べた。このリソグラフィ装置は回路パターンをウェーハに転写し、一部のPanther Lakeプロセッサの製造に役立てられる。高開口数値リソグラフィ装置の価格は約4億ドルで、標準EUVリソグラフィ装置の2倍となる。さらに、この機器を製造工程に応用することは技術的にも非常に困難である。Intelは高開口数値デバイスを使い、チップの特定レイヤーのテストを行っており、これによりIntelおよびASMLはデータを収集し、装置の最適化を進めることができる。
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