Samsung va ASML yuqori NA EUV litografiya texnologiyasini ishlab chiqishda hamkorlik qilmoqda
智通财经2026/09/08 23:36Seoul Economy Daily xabariga ko'ra, Samsung Electronics dunyodagi eng yirik litografiya uskunalari ishlab chiqaruvchisi ASML bilan birgalikda yuqori sonli teshik (High-NA) ekstremal ultrabinafsha (EUV) litografiya texnologiyasini hamkorlikda ishlab chiqadi. Samsung sanoat standarti o‘zgarishini ilgari surishga qaratilgan tashabburda ishtirok etmoqda, bu tashabbur 1980-yillardan beri foydalanib kelingan 6 dyuymli maskadan 12 dyuymli versiyaga o‘tishni o‘z ichiga oladi. Kompaniya eng birinchi bo‘lib High-NA EUV uskunalariga asoslangan DRAM ommaviy ishlab chiqarish tizimini yo‘lga qo‘yishga intilmoqda. Samsung 2028-yildan boshlab High-NA EUV uskunalarini DRAM ishlab chiqarishda qo‘llashni rejalashtirgan va keyinchalik ushbu texnologiyani 1,4 nanometr ilg‘or mantiqiy jarayonlarga kengaytirishni mo‘ljallamoqda, bu orqali kompaniyaning chip ishlab chiqarish xizmatlarini rivojlantirishga turtki beradi. Maskaning o‘lchamini kengaytirish EUV texnologiyasining cheklovlarini bartaraf etishga qaratilgan. High-NA EUV’ning sonli teshigi an’anaviy EUV’ga nisbatan 66% balandroq bo‘lib, yanada nozik elektron sxemalarini hosil qilish imkonini beradi. Hozirda ishlatilayotgan 6 dyuymli maskani 12 dyuymli maskaga almashtirish orqali fabrika ishlab chiqarish samaradorligini oshirish va chip ishlab chiqarish xarajatlarini kamaytirish mumkin bo‘ladi.
Mas'uliyatni rad etish: Ushbu maqolaning mazmuni faqat muallifning fikrini aks ettiradi va platformani hech qanday sifatda ifodalamaydi. Ushbu maqola investitsiya qarorlarini qabul qilish uchun ma'lumotnoma sifatida xizmat qilish uchun mo'ljallanmagan.
Sizga ham yoqishi mumkin
Fitch Fransiya byudjeti baholamoqda, amalga oshirilishi reyting kelajagiga ta'sir qiladi
1. Fitch-ning yuqori darajadagi tahlilchisi, Fransiya hukumati taqdim etgan budjet rejasi davlat moliyaviy tanqisligini nazorat qilishda muhim qadam ekanini bildirdi. 2. Agar ushbu reja oxir-oqibat tasdiqlanmasa, salbiy natijalar paydo bo‘lishi mumkin. 3. Fitch’ning G‘arbiy Yevropa davlat suveren reytingi boshlig‘i Barriga-Salazar aytdiki, Fransiya moliya vaziri Le Maire tomonidan 2027-yilga borib moliyaviy tanqislikni iqtisodiy hajmning 5%igacha tushirishni ko‘zlagan reja amaliy ahamiyatga ega. 4. U, Fransiya moliyasida barcha muammolar hali ham mavjudligini, biroq reja yetarlicha muhim ekanligi va agar amalga oshirilmasa, sezilarli zarba bo‘lishi mumkinligini ta’kidladi. 5. U qo‘shimcha qildi: bu juda katta va nihoyatda ahamiyatga ega reja, eng muhim narsa – ushbu reja hozirgi shaklda tasdiqlanishi mumkinmi yo‘qmi. 6. Le Maire ushbu oy boshida e’lon qilgan budjet loyihasida taxminan 43 billions yevro miqdoridagi moliyaviy tuzatish choralari mavjud. 7. Loyihaning maqsadi tanqislikni kamaytirish hamda Fransiyaning davlat moliyaviy holatiga nisbatan moliya bozoridagi xavotirlarni yumshatishdan iborat. 8. Bozor darajasida, budjet tasdiqlanishi Fransiya davlat obligatsiyalari spredi va reyting prognoziga ta’sir qiladi. 9. Keyingi bosqichda, Fransiya parlamentining ko‘rib chiqish jarayoni va Fitch tomonidan Fransiya suveren reytinglariga baho berish harakatlari kuzatiladi.
Kripto narxlari
Ko'proq
